The "Electrocomposeur" vas a rasterscan e-beam lithography machine purposed for maskwriting. Developed by the Thomson-CSF central lab near Paris at the beginning of the 70s, it was installed at Grenoble in the "Sescosem" semiconductor fab in 1976.
This is a copyrighted image from the CAMECA Archives
Reproduction is authorized.
Reproduction also authorized under terms of GNU Free Documentation License. Read the terms of this authorization
Bu belgenin GNU Özgür Belgeleme Lisansı, Sürüm 1.2 veya Özgür Yazılım Vakfı tarafından yayımlanan sonraki herhangi bir sürüm şartları altında bu belgenin kopyalanması, dağıtılması ve/veya değiştirilmesi için izin verilmiştir;
Değişmeyen Bölümler, Ön Kapak Metinleri ve Arka Kapak Metinleri yoktur. Lisansın bir kopyası GNU Özgür Belgeleme Lisansı sayfasında yer almaktadır.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
atıf – Esere yazar veya lisans sahibi tarafından belirtilen (ancak sizi ya da eseri kullanımınızı desteklediklerini ileri sürmeyecek bir) şekilde atıfta bulunmalısınız.
benzer paylaşım – Maddeyi yeniden düzenler, dönüştürür veya inşa ederseniz, katkılarınızı özgünüyle aynı veya uyumlu lisans altında dağıtmanız gerekir.
Bu lisanslama etiketi, dosyaya GFDL lisanslama güncelleştirmenin bir parçası olarak eklenmiştir.http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/CC BY-SA 3.0Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0truetrue
Altyazılar
Bu dosyanın temsil ettiği şeyin tek satırlık açıklamasını ekleyin.
{{Information |Description=The "Electrocompseur" vas a rasterscan e-beam lithography machine purposed for maskwriting. Developped by the Thomson-CSF central lab near Paris at the beginning of the 70's, it was installed at Grenoble in the "Sescosem" semico
Bu dosyada, muhtemelen fotoğraf makinesi ya da tarayıcı tarafından eklenmiş ek bilgiler mevcuttur. Eğer dosyada sonradan değişiklik yapıldıysa, bazı bilgiler yeni değişikliğe göre eski kalmış olabilir.